LPKF无掩膜激光直接成像技术制作高精度光刻图形
随着激光技术的发展，将激光技术必要应用于微米级元件的制作，价格低廉且速度更加慢。ProtoLaserLDI是一款需要掩模的激光必要光学设备，一束激光才可必要已完成感光胶的曝光。 操作者非常简单，内置支撑装置，将样品放进才可必要制作。功能强大的桌面型设备：LPKFProtoLaserLDI激光必要光学设备可以在感光胶上制作微米级微结构 LPKF与斯洛文尼亚公司Aresis以及卢布尔雅那大学联合研发了新一代低成本较慢制作微结构设备。
随着激光技术的发展，将激光技术必要应用于微米级元件的制作，价格低廉且速度更加慢。ProtoLaserLDI是一款需要掩模的激光必要光学设备，一束激光才可必要已完成感光胶的曝光。
操作者非常简单，内置支撑装置，将样品放进才可必要制作。功能强大的桌面型设备：LPKFProtoLaserLDI激光必要光学设备可以在感光胶上制作微米级微结构 LPKF与斯洛文尼亚公司Aresis以及卢布尔雅那大学联合研发了新一代低成本较慢制作微结构设备。紫外激光平写出光刻设备(LDI)在光致抗蚀基材上平写出图形，比传统掩膜光刻工艺优势更为显著。 LPKFLDI对于样品的较慢制作很大的推展了微流体地下通道以及微结构领域的研究和研发。
实验室生物芯片制作设备相当大程度上增进了芯片小型化的制作过程并且增加了液体取样量，防止样本量的浪费。LDI设备为医学、生物学、化学和物理学等领域的研发带给了诸多可能性。做成的样品可应用于血液细胞分析，医疗临床和筛查、传感器(化学、生物、环境和武器技术；汽车工程)，化学合成和物理实验。
微流体地下通道的制作 在从10纳米级到100微米级的扰流控的生产生产中主要有三种加工工艺。 传统光刻的方法主要适合于大规模的生产。对于改动频率低的样品设计或小批量的制作，传统光刻流程就过于过简单了。 在电子束光刻中，电子束被电磁场挤满成识束照射到电子抗蚀剂(感光胶)上，从而构成微结构。
电子束分辨率20-50nm。然而这个过程必须类似抗蚀基材、导电基板、低真空，且花费时间很长。
LPKFProtoLaserLDI则具备可较慢扫瞄的激光束，无掩膜激光平写出光刻技术制作微结构，加工过程较慢、尺寸精准、边缘光滑、拐角陡直。 LDI：较慢、柔性、精准SU8负性感光胶上制作几何尺寸精准的柱形微结构 LPKFProtoLaserLDI可用作制作微流体地下通道，MEMS、BioMEMS、构建光学、微结构光子实验。
在精度方面，LDI高于所有类似于的必须掩膜的光刻设备。投资成本相比之下高于电子束光刻以及许多掩模对准装置。
即使宽度大于1mu;m的网格LDI也需要精彩应付。 产品其他特点：激光波长为375nmTEM00紫外激光光束平写出，这也可以用作传统的光刻工艺。
软件高效率的激光光斑尺寸(1-3mu;m)可以用来符合有所不同的精度市场需求，构建的一体式摄像头靶标辨识对基材展开精准对位，自动校准，也需要对尺寸较小的样品展开制作和拼凑。 ProtoLaserLDI制作的样品将于2015年3月17-19上海epChina上首次展开展出。
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